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标题: Lyra唱头设计师Jonathan Carr谈唱头设计中挑战应对 [打印本页]

作者: jogo 时间: 2017-6-23 11:02
标题: Lyra唱头设计师Jonathan Carr谈唱头设计中挑战应对
本帖最后由 jogo 于 2017-6-23 11:41 编辑

Lyra之前一直觉得是日本品牌，后来了解才知道，它是挪威人Stig Bjorge建立，美国人Jonathan Carr负责设计研发,日本人Yoshinori Mishima负责装配测试，算是三国联手了。

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Jonathan在audiogon这个网站论坛上有很多关于唱头设计，唱放乃至线材讨论的帖子，其中在2009年，刚刚推出lyra delos的时候，有一篇比较长的关于唱头设计中磁通量和唱头循迹能力关系的见解，如下：

原文英文，直接google翻译修改了几个词语，不过尽量还是去看原文吧

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在对应的脉冲通量的设计目标中，使用最佳跟踪力的差距似乎对外行人来说显而易见。

我将指出，传统型MC中的磁路甚至没有跨越间隙的对称磁通量，因为磁体的不对称定位和接近对通量线施加翘曲效应。因此，第一个挑战是设计一个尽可能具有跨越间隙的对称磁通量的磁路，但是这种要求本身消除了大多数MC滤芯。

关于Delos的机械预偏置系统的新颖性，因为我完全同意它似乎是一个明显的设计特征（回想起来，咧嘴笑），我已经和各种日本的唱头设计师和音响评论员讨论过他们对整个唱头行业有很好的了解，包括历史观点）。我听到的最接近的事情就是松下（原来是Supex，Entre，Audiocraft，现在和他自己的My Sonic Labs）。虽然松田隆没有明确指出他做了什么，但他表示，他试图通过几年前制作的几个原型，尝试达成类似的目标，但选择不把它超越原型阶段。我推测他的磁路不能在间隙上产生足够对称的磁通量，这降低了机械预偏置系统的有效性，使项目出现（对他，当时）不值得额外的努力和成本。

关于整个唱头行业，似乎重点主要是实现正确的VTA和SRA，并且在VTF负载条件下卷绕机和磁路之间的角度没有得到应有的关注（我没有能够找到任何以前关于这个问题的文章，无论是德语，丹麦语，英语还是日语）。此外，我的经验是，线圈成角度对VTF量非常敏感，因此如果唱头制造商允许用户相当宽的VTF范围，我们可以推断出VTF和线圈角度之间的关系（以及扩展，保持线圈形成器和磁路角度尽可能紧密对准的可能性）不是他的优先事项。相比之下，我规定了Delos的0.1g VTF范围（1.7〜1.8g）。

>您必须克服哪些工程挑战才能将此方法付诸实践？

首先，机身结构的机械角度与您的任何设计不同，其中不包括机械预偏置系统，所以您将在您的产品系列之间创建相当数量的组件不兼容性，这通常是制造中要避免的问题（特别是如果您维护大型组件库存）。

其次是针对每个阻尼器类型的形状和弹性体硬度的正确组合，这在从理论到实践的过程中是至关重要的。机械预偏置理念的关键部分是考虑由垂直跟踪力作为资产而不是责任的阻尼变形，并积极利用。但是由于每单位跟踪力的阻尼器变形速度受形状，厚度和弹性体硬度的影响，如果弹性体化合物或厚度发生变化，阻尼器的形状也会发生变化。由于唱头制造商依赖于各种弹性体化合物和厚度用于不同的悬臂材料，线圈金属，悬挂线，主体材料和结构选择，频率范围等，并且由于良好的弹性体未知是特别精确的或者在机械行为方面可以预测，将需要进行广泛的试验和错误测试。我相信，我们经过超过50种不同的形状，厚度和弹性体化合物的组合，然后才能在Delos生产的阻尼器选择中使用。

第三，普通唱头中的悬挂和阻尼器是无方向性的，这意味着建造者不需要考虑阻尼器面对或指向的方式。但是，由于Delos' 机械预偏置系统需要方向阻尼器，唱头制造商需要确保每个阻尼器朝向正确的方向，并且还必须旋转每个阻尼器，直到找到为目标跟踪提供适当量的悬臂偏转的精确方向力。这种类型的唱头对建筑师的能力和细节的要求更高，并且比普通唱头需要更长的建造和调整。

>您认为VTF的主要作用是将线圈和铁芯对准间隙，还是为了便于足够的唱针/凹槽接触进行适当的跟踪？

都。VTF在维持足够的触针到凹槽接触以获得良好的跟踪的重要性不能被忽视。但是，VTF _can_也是将线圈对准磁路的重要工具也是如此。OTOH具有传统的对称阻尼器系统和体结构，仅仅使用VTF就可以使线圈与磁路对齐（如果您在audionord网站上学习我的pdf，应该清楚）。即使应用一个VTF引入角度对准误差，VTF越高，误差越大。悬臂安装件需要机械预偏置的悬架和阻尼器系统（如Delos），以便应用VTF将使线圈与磁路对准，或者主体结构需要特殊的设计，使得磁路可以具有与悬臂安装座不同的角度。

>我会假设您的阻尼器材料/悬架设计/触针几何被选择以优化在精确负载下的跟踪，以将线圈和铁芯对准间隙内？

绝对。阻尼器形状和复合材料，悬浮合金，直径和长度以及触针角都被选择，使得在相同的VTF下可以实现适当的跟踪，以使线圈与磁路对准。然而，还要注意，阻尼器硬度和因此角度偏转将根据环境温度而变化（大多数唱头也是如此）。如果温度下降，则需要增加VTF以保持线圈角度与磁路对齐，如果温度升高，则需要减小VTF才能实现。我通常建议用户在tonearm附近保留小白炽灯和温度计，并使用它来控制温度以及保持良好的可见度。目标温度应在23〜23摄氏度。

>鉴于您的窄范围的VTF（和随后的VTA）将线圈和铁芯对准间隙，您是否藉此机会帮助用户在设置期间确保正确的SRA（即，VTF在公差范围内，例如，头壳在负载下平行于盘片，VTA - 因此SRA将被优化）？鉴于您的必要设计公差，我认为这是合理的。

是的，你是对的。设计悬臂组件中的所有部件，并考虑到这一目标所指定的所有公差。如果tonearm轴承高度定位使得推荐的VTF的应用将tonelm管对准，使其与LP表面平行，Delos的悬臂应该与LP呈20度角并垂直于红色带有前磁铁的部件，并且触笔应该与LP的1度（+/- 1度）前角。至少每当我设置具有适当的tonearm轴承高度和适当的VTF的Delos，所有其他角度（包括VTA和SRA）或多或少都落在了位置。

Delos包含了另一个独特的但IMO的敏感功能，旨在促进墨尔本头盔中适当的唱头对齐，身体结构更好地利用非平行表面，以更好地控制共振，而不依赖过度阻尼，从而可以消除动态和实时性的声音，说明手册深入讨论了哪种唱头装载以及如何实现合适的加载，即使是包装盒被设计为比正常情况更有趣。听到Delos用户对这一切的看法会很有趣。

>我很好奇地知道您在最终确定Delos设计时丢弃的一些想法/技术，因为它们没有提供您想要的好处。

我从以往的经验中知道，除铝之外的高强度身体材料听起来会很好。磷青铜（如Skala）和钛（如Titan）特别好听。因此，除了实心加工铝（我将会考虑德洛斯价格范围内的唱头的标准做法）之外，我还研究了使用诸如钛或不锈钢等更多外来材料制造各种结构组件，但是将制造成本保持在原因之内通过使用更便宜的成型工艺，如铸造和锻造。不幸的是，结果是不能接受的。尽管如此，如果Delos可能是由钛制成的，听力测试表明，固体铝的表现明显优于铸造或锻造钛或烧结不锈钢。这个课程似乎不仅是材料，而且形成过程对于良好的声音至关重要。

在其他实验中，我从两个不同的线规上卷绕双线圈，这并没有给出足够的改善声音值得努力。然后有各种各样的阻尼器和悬架的死胡同。总而言之，将Delos从第一个原型开发到成品占用了一年以上。

>或者因为为了其他而被保存（由于实现经验益处的单一成本）。

其中不止一个，不仅仅是身体材料的选择。不过，我宁愿暂时保留这些。

>如何选择您的各种唱头的唱针特性？

在价格与性能的基础上，同时避免对大多数用户进行正确设置来说太难的配置文件。

我喜欢线接触式测针，它将垂直长的接触片与LP槽结合，并具有水平短的接触片。垂直长接触贴片提供更大的沟槽接触，以更好的跟踪和更好的抗局部凹槽损伤，并且水平短接触贴片提供更好的高频性能和更少的涂抹时间。这导致具有相当大的主半径和小的小半径的线接触测针，但实际上半径都不能太大。大半径的太大使得方位调整比大多数用户（和许多tonearms）想要处理更为关键，而小半径的太小倾向于在触笔上产生足够尖锐的嚼槽的边缘。根据我自己的经验和观察，我喜欢最大主半径在70〜80um范围内，小半径在2.5〜3um范围内。

对于除Dorian和Delos之外的所有Lyra唱头，我使用Lyra设计的可变半径定制唱针，测量3um（次要）x 70um（最大专业）。这是一个优秀的唱针，但有一个很大的缺陷。作为定制的Lyra形状，没有其他制造商使用它，因此它是少量制造并且变得相对昂贵。像多利安或德洛斯这样更便宜的唱头不允许制定出允许定制触笔组合的预算，除非我以其他方式降低制造质量（我拒绝这样做）。为了保持我认为在这个价格水平上建立质量（身体结构以及唱针和工艺）的质量，我需要一个现成的唱针。最接近的唱针形状，定制的Lyra 3um x 70um配置文件是Namiki Microridge，我可以得到2.5um x 75um。这就是Delos使用的。

>您的技术规格非常清晰，但是您可以公开提供范围广泛的加载（100奥姆至47千奥姆）。为什么这样的范围？

首先，因为低阻抗MC的加载并不是唱头本身的一个问题。一个MC卡座是一个机械驱动的发电机，而且效率不高。与扬声器驱动器不同，低阻抗MC滤芯的效率微乎其微，意味着施加在电域中的负载在机械域中的影响相对较小（这在哪里可以看到对跟踪性能和失真等方面的影响）。此外，由于信号线圈的电感非常低，电负载实际上对可听范围内的任何信号都没有影响，并且这在保持可听区域中相对平坦的相位响应方面具有其他益处（对于20kHz以下的良好相位响应的一般经验法则是电频率范围应当延伸至至少200kHz）。这是与高电感MM和MIs完全不同的情况，其中改变负载将影响可听范围内的频率响应，并且相位响应甚至更大。

因此，如果电气负载不会在可听频率范围内改变录音带的行为，为什么声音变化如此显著？答案是，线圈线圈的电感将与tonearm电缆的电容（和线圈绕组的分布电容）共振并产生高频尖峰。这个尖峰的幅度可能非常高，并且如果在录音阶段输入中没有加载措施，则可能会给许多唱机阶段的直接问题。我手头没有实验室笔记，但是从内存中加载了一个47kohm的Delos可能会导致6〜7MHz的28dB尖峰。一些唱片舞台将被设计成使得它们仍然没有得到满足，但是由于这样的原因，许多唱机舞台对这种残酷的治疗并不满意，听起来不太好听。

>你会为Delos建议什么阻抗？

这取决于tonearm电容，以及您的特定唱机舞台可以忍受多少超声波或射频能量。

至于对大多数唱机舞台推荐使用什么“明智的”加载值，我将从Delos的使用手册中逐字引用相关章节。

“ 将tonelm电缆连接到RIAA均衡唱机输入端，设计用于低输出MC滤芯（0.6mV输出电压或更低）直接使用。

如果唱机舞台输入阻抗可调，耳机设定的音量应该是足够的，最高值为47kohm，最低值为91奥姆。 “对于对数学校正输入负载感兴趣的听众，该值取决于Delos和唱机舞台之间的总电容（主要由tonearm电缆组成）。请注意，低阻抗唱头的“输入负载”与唱头相比较少，更重要的是驯化RF能量，否则可能会触发唱机阶段的非线性并产生互调失真。由于不同的唱机级具有不同的RF能量公差，

期望最好的负载值根据tonearm电缆和唱机舞台而变化。“ ”但是，您可以尝试根据这些数字对设置您的唱机舞台的装载量。在每对中，第一个数字是Delos和phono舞台之间的总电容（以picofarads为单位），第二个数字是相应的最佳阻抗范围：50pF - 510〜270ohm，100pF - 390〜200ohm，150pF - 330〜160ohm，200pF - 300〜150奥姆，250pF - 270〜130奥姆，300pF - 240〜120奥姆，350pF - 220〜110奥姆，400pF - 220〜110奥姆，450pF - 200〜100奥姆，500pF - 200〜100奥姆，550pF - 180〜91奥姆，600pF - 180 〜91ohm。在每对中，选择第一个数字以将RF频率处的任何峰值抑制到大约3dB（几乎所有唱机级都应该是可接受的），

而第二个数字将会产生0dB（相对于稍微较差的相位响应和减小的动态）。“ ”如果您不知道tonearm电缆的精确电容，每米100pF是标准的，而低电容电缆很可能每米约50pF（我们不推荐使用大电容电缆）。作为近似负载图，我们建议1m低电容电缆为510ohms，1.5m低电容电缆为430ohms，1m标准电缆为390ohms或2m低电容电缆，1.5m标准电缆为330ohms或3m低电容电缆，270ohms为2m标准电缆或4m低电容电缆，240ohms 3m标准电缆，200ohms 4m标准电缆“

作者: an2937 时间: 2017-6-23 12:39
jogo找到新目标哈哈

作者: 阿忙 时间: 2017-6-23 12:50
好好学习天天向上

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